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超純水設備的產水電阻率可以達到18MΩ*cm左右，水中雜質不但全部被去除，并且細菌微生物等物質也不復存在，與此同時，礦物質與微量元素也全部消除。...
超純水設備采用如今大熱的膜技術，利用膜的特性可有效去除水中的導電介質，能夠將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低的程度。...
萊特萊德超純水設備可依據現(xiàn)場的需求進行模塊化設計，并且設備不需中和藥劑，因為EDI膜塊不會有酸堿廢液產生，這樣不僅保證了設備運行中不會產生二次污染，同時也減少了成本的投入。...
萊特萊德超純水設備采用反滲透水處理設備、電去離子(EDI)設備和拋光混床相結合的方式制取超純水，出水電阻率高達18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水需求。...
超純水設備采用RO、EDI、拋光混床、超濾過濾等多種工藝處理，去除水中各種離子、微生物、雜質，氣體及有機物，使產水水質滿足生產工藝用水水質要求。...
萊特萊德生產的超純水設備可有效處理以上物質，還可去除水中的導電介質，以及不離解的膠體物質、氣體等，出水電阻率達到18 MΩ.CM以上。...
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