超純水，即電阻率高達(dá)18MΩ*cm以上的水，幾乎不含任何雜質(zhì)，是芯片清洗、光刻、蝕刻等工藝中不可或缺的溶劑。它能有效去除芯片表面的微小顆粒和有機(jī)物殘留，防止污染物影響電路的完整性和電性能，從而保障...

采用反滲透水技術(shù)、電去離子(EDI)設(shè)備和拋光混合床相結(jié)合的工藝生產(chǎn)超純水。EDI模塊通過連續(xù)電化學(xué)過程，在不使用化學(xué)再生劑的情況下，有效去除水中離子，大大提升了超純水的制備效率和水質(zhì)穩(wěn)定性。...

超純水作為清洗劑，其純度要求很高，通常需要達(dá)到電阻率高于18.2 MΩ·cm，且?guī)缀醪缓魏稳芙庑噪s質(zhì)和顆粒物。為了達(dá)到如此嚴(yán)苛的標(biāo)準(zhǔn)，超純水設(shè)備集成了一系列高效凈化技術(shù)，確保產(chǎn)水水質(zhì)超越行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。...

EDI技術(shù)作為制備超純水的先進(jìn)手段，以其高效、環(huán)保的特點(diǎn)，在超純水制備領(lǐng)域占據(jù)了舉足輕重的地位。...

萊特萊德超純水設(shè)備采用的雙級(jí)反滲透系統(tǒng)+EDI模塊+拋光混床的處理工藝，并且利用了膜元件的特性有效去除了水中的導(dǎo)電介質(zhì)，逐級(jí)將水體中的離子等截流脫除，出水水質(zhì)可達(dá)到國家要求。...

超純水設(shè)備采用“反滲透+EDI+拋光混床”的綜合技術(shù)，不但能深度去除超純水中含有的各種離子、雜質(zhì)和細(xì)菌，還能使出水電阻率達(dá)到18MΩ*cm(25℃)，生產(chǎn)質(zhì)量十分穩(wěn)定。...