市面上常見的超純水設備采用反滲透、EDI 裝置結合混床模塊化設計工藝，這種工藝能夠高效去除水中雜質(zhì)，精準制備出符合芯片制造用水要求的超純水。?...

電鍍過程對水質(zhì)非常敏感，水質(zhì)不達標會直接影響鍍層均勻度與工藝穩(wěn)定性，因此，電鍍行業(yè)對超純水需求迫切，超純水設備在該領域前景廣闊。?...

超純水設備生產(chǎn)的超純水，電阻率可達 18 MΩ*cm (25℃)，完全符合集成電路清洗用水的嚴格要求，在集成電路清洗領域展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢。?...

超純水設備在芯片生產(chǎn)中的應用，提升了芯片的良品率和質(zhì)量。在如今國產(chǎn)芯片奮力崛起的征程中，超純水設備已然成為不可或缺的重要支撐。...

工業(yè)超純水設備采用的反滲透 + EDI + 精處理混床組合工藝，憑借其出色的性能與顯著優(yōu)勢，成為半電子產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)環(huán)節(jié)中的 “用水保障神器”。?...

超純水設備的 EDI(連續(xù)電除鹽)模塊起著至關重要的作用，它能夠高效去除水中的離子，產(chǎn)出高質(zhì)量的超純水。...